Bis(trimethylsilyl)amine
Daripada Wikipedia, ensiklopedia bebas.
| Bis(trimethylsilyl)amine | |
|---|---|
 |
 |
| Nama IUPAC | Bis(trimethylsilyl)amine |
| Nama lain | Hexamethyldisilazane 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane |
| Pengecam | |
| Singkatan | HMDS |
| Nombor CAS | [] |
| PubChem | |
| Nombor EC | 213-668-5 |
| MeSH | Hexamethylsilazane |
| Nombor RTECS | JM9230000 |
| SMILES | C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C |
|
|
| Rujukan Beilstein | 635752 |
| Sifat | |
| Formula molekul | C6H19NSi2 |
| Jisim molar | 161.39 g mol−1 |
| Ketumpatan | 0.77 g cm-3 |
| Takat lebur |
-78 °C, 195 K, -108 °F |
| Takat didih |
126 °C, 399 K, 259 °F |
| Bahaya | |
| MSDS | External MSDS |
| NFPA 704 |
3
1
1
|
| Kecuali jika dinyatakan sebaliknya, data diberikan bagi bahan dalam keadaan piawai (pada suhu 25 °C, 100 kPa) | |
| Rujukan kotak info | |
Bis(trimethylsilyl)amine (juga dikenali sebagai hexamethyldisilazane, atau HMDS) adalah kompaun organosilikon dengan formula molekul formula [(CH3)3Si]2NH. Molekul ini adalah terbitan ammonia dengan kumpulan trimethylsilyl menggantikan dua atom hidrogen. Ia merupakan cecair tidak berwarna,reagen dan juga pendahulu kepada base yang popular dalam sintesis organik dan kimia organo-logam.
Dalam proses photolithography, HMDS biasanya digunakan untuk menggalakkan pelekatan photoresist sebelum photoresist digunakan ke atas bahan semikonduktor.
|
|
Rencana ini merupakan rencana tunas. Anda boleh membantu Wikipedia dengan mengembangkannya. |
